Çin, şimdiye dek yalnızca Hollandalı ASML'nin üretebildiği EUV (Extreme Ultraviolet) litografi makinelerinin yerli prototipini çalışır hale getirdi. Reuters kaynaklarına göre prototip, ileri seviye çip üretiminde wafer işlemek için gerekli ultraviyole ışığını üretebiliyor; teorik veya laboratuvar deneylerinden öte çalışır durumda.
Sistem hala eski ASML makinelerinden sökülen bazı bileşenlere bağımlı. Özellikle Batı'nın hassas optik sistemleri Çin için teknik bir engel olmaya devam ediyor. Buna rağmen prototip, 5 nm, 3 nm ve altı üretim teknolojilerinin anahtar makinesi konumunda; doğrulanması ve ticarileşmesi halinde Çin'in çip teknolojilerinde dışa bağımlılığını azaltma yolundaki en somut adım olacak.
ASML CEO'su Christophe Fouquet Nisan ayında Çin'in bu seviyede bir EUV teknolojisini geliştirmesinin uzun yıllar alacağını ifade etmişti. Reuters'in gündeme taşıdığı prototip, bu öngörüleri sorgulattı. Çin'in EUV teknolojisini yaygın ve ticari ölçekte kullanır hale gelmesi için kaynaklar 2030 civarını işaret ediyor; ABD ile süren yarı iletken rekabeti açısından bu bile erken bir tarih.
Yapay zeka alanındaki hızlı büyüme yerli ileri üretim ihtiyacını artırıyor. Huawei, SMIC ile iş birliği yaparak yeni tesis ağları kuruyor; SMIC'in mevcut kısıtlamalar altında geliştirdiği N+3 süreci 5 nm sınıfına rakip olarak konumlandırılıyor. Tedarik zinciri açısından tablo net: küresel ileri yarı iletken kapasitesinin ağırlık merkezi yeniden şekilleniyor.
Önemli Notlar:
1. Çin, şimdiye dek yalnızca ASML'nin üretebildiği EUV litografi makinesinin yerli çalışır prototipini geliştirdi.
2. Prototip wafer işlemek için gerekli UV ışını üretebiliyor ancak hala eski ASML bileşenlerine bağımlı.
3. ASML CEO'su Fouquet daha önce Çin'in bu seviyeye uzun yıllar uzakta olduğunu söylemişti.
4. Yaygın ve ticari kullanım için 2030 civarı tahmin ediliyor; bu bile rakipler açısından erken sayılıyor.
5. Huawei ve SMIC işbirliğinde yerli ileri yarı iletken kapasitesi hızla genişliyor.
